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      COMNEXT~次世代 通信技術&ソリューション展~に出展します

      パナソニック インダストリー株式会社(以下、当社)は、2026年12月2日(水)から12月4日(金)まで東京ビッグサイトにて開催される「COMNEXT~次世代 通信技術&ソリューション展~に出展します」に出展します。

      生成AIの急速な進展により、AIデータセンターや通信インフラでは、さらなる高速・大容量化とともに、省電力化や安定した運用が求められています。当社は、AIデータセンター、エネルギーインフラの安定稼働を支えるデバイス技術を通じて、お客様のニーズにお応えしてまいります。本展示会では「電気二重層キャパシタ」「基板対FPCコネクタ」「PhotoMOSリレー」などのデバイス群をご紹介します。
      皆様のご来場を心よりお待ちしております。

      出展製品

      製品画像をクリックすると、製品詳細をご覧いただけます。
      EDLC-IMG-5

      電気二重層キャパシタ

      瞬時電力変動に対応し、高効率/高信頼電源を実現するデバイス

      【特長】
      ・GPU負荷急変への即応が可能(急速充放電可能)
      ・電源/グリッドへの負荷を抑制しシステムの安定性をキープ
      ・小型(Φ18mm)サイズのためレイアウトの自由度アップ

      【展示内容】
      AIデータセンター向け高出力密度のEDLCセルおよび、CBU(Capacitor Bank Unit)のモックアップを展示いたします。

      CF3_FPC

      基板対FPCコネクタ CFシリーズ

      独自構造で組立自動化と高信頼性接続を実現

      【特長】
      ・SMD実装により、コネクタ組立が手作業不要で、組立を自動化
      ・両側金属接点構造により接続信頼性とFPCコスト低減を実現
      ・嵌合方向ラインナップ充実で、配線自由度とモジュールの小型化に貢献

      【展示内容】

      基板対FPCコネクタを使用したBBU(Battery Backup Unit)アプリケーションのモックアップを展示いたします。配線のFPC化によりモジュールの小型化と基板レイアウトの設計自由度向上に貢献します。

      photoMOS

      PhotoMOS®リレー

      半導体により、【長寿命・小型・低消費電力】を実現

      【特長】
      ・出力に半導体を採用することにより、高頻度開閉機器の長寿命・高速化​
      ・小型パッケージにより、採用機器の小型化に貢献​
      ・低電流駆動により、採用機器の低消費電力化に貢献​

      【展示内容】
      PhotoMOSリレーの多彩なパッケージラインアップを実物サンプルで展示いたします。各パッケージの形状やサイズを実際に比較・確認いただけます。

      出展概要

      展示会名

      COMNEXT

      会期

      2026年12月2日(水)~12月4日(金)

      会場

      東京ビッグサイト

      当社ブース番号:C3-60

       

      COMNEXTマップ-3

       

      展示会「COMNEXT」とは

      26_J_FC_posi_COMNEXT

       COMNEXT(コムネクスト)とは、光電融合、光通信技術、高周波技術、ネットワーク設備・配線施工、ローカル5Gなどの次世代通信技術・ソリューションに特化した専門展示会です。最新技術の実機デモや製品が多数展示され、世界中から情報を求める来場者が集まる国際商談展です。
      併催セミナーでは業界のキーマンによる講演を多数開催します。業界の最新動向や研究開発の現状、各社の取組み事例を紹介しています。 

      会社紹介ムービー

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